主營：平面研磨機(jī),平面拋光機(jī),研磨盤,拋光盤,研磨拋光液,研磨加工,拋光加工
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供貨類型新品 |
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瀏覽數(shù)量758 |
特性描述- |
過期時間長期有效 |
有效期至長期有效 |
應(yīng)用領(lǐng)域 |
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設(shè)備廣泛用于手機(jī)玻璃、光學(xué)玻璃晶片、LED藍(lán)寶石襯底、陶瓷板、活塞環(huán)、閥片、釹鐵硼、鐵氧體、鈮酸體、鈮酸鋰、鉭酸鋰、PTC熱敏電阻、光盤基片、陶瓷密封環(huán)、硬質(zhì)合金、密封環(huán)、鎢鋼片、等各種材料的雙面研磨拋光。
它是為精密磨削設(shè)備,上、下研磨盤作相反方向轉(zhuǎn)動，工件在載體內(nèi)作既公轉(zhuǎn)雙自轉(zhuǎn)的游星運(yùn)動.磨削阻力小不損傷工件,而且兩面磨削均勻,生產(chǎn)效率高.下面是它的案例。
設(shè)備特點：
1.采用日本SMC氣動元件，分段精密加壓控制，適合粗磨、中磨、精磨、精拋等工藝要求。
2.系列研磨機(jī)采用四段壓力,即輕壓、中壓、重壓、修研的運(yùn)行過程。
3.采用日本NSK主軸軸承、確保機(jī)器的精密性及耐用性。
4.上磨盤快升、快降、緩升、緩降集中于一個手柄，操作更方便。
5.獨特的安全鎖緊機(jī)構(gòu),防止意外斷氣、斷電而“掉盤"傷人的意外發(fā)生。
6.可根據(jù)用戶要求增加光柵厚度控制系統(tǒng),加工后的產(chǎn)品厚度公差可控制在0.002mm范圍內(nèi);平面度公差可控制在0.001mm范圍內(nèi).
7.齒圈及擋水盤半動升降系統(tǒng),既方便取放工件及嚙合齒輪，又滿足改變游輪嚙合高低位置的要求。
8.整機(jī)的運(yùn)行采用獨立電機(jī)拖動,使上盤、下盤、中心輪、速度達(dá)到*配比，游輪實現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)、滿足修盤工藝需求。
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